PR-3離子去膠機(jī)

通過(guò)等離子體方法，對(duì)陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報(bào)警系統(tǒng)等部分組成。  
射頻電源采用RF500W電源控制。  
PR-3離子去膠機(jī) 氣路系統(tǒng)采用兩臺(tái)浮子流量計(jì)控制氣體進(jìn)氣。
 腔室結(jié)構(gòu)：臥式、純石英
 真空室規(guī)格：F210′300mm
 限真空：1Pa（環(huán)境濕度≤55%）
 真空系統(tǒng):機(jī)械泵
 大裝片直徑: F4英寸
  大裝片容量：4英寸 25片/爐
 去膠速率: ～500A/min
 去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內(nèi))
 操作方式:手動(dòng)方式
用戶可選配全自動(dòng)控制方式

產(chǎn)品名稱：標(biāo)準(zhǔn)型勻膠機(jī) 臺(tái)式勻膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào)：SC-1B

標(biāo)準(zhǔn)型勻膠機(jī)  臺(tái)式勻膠機(jī) 型號(hào)：SC-1B

SC-1B標(biāo)準(zhǔn)型勻膠機(jī)主要適用于半導(dǎo)體硅片、晶片、ITO導(dǎo)電玻璃、光學(xué)玻璃等工藝制版及表面涂覆，各種光刻膠表面膜制備。  
   采用變頻技術(shù)控制旋涂速度與時(shí)間，有效控制膠的厚度、均一性。可應(yīng)用于各研究領(lǐng)域前期研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)。
主 要 技 術(shù) 指 標(biāo)1. 控制顯示：LED數(shù)字控制器，用戶可通過(guò)控制器進(jìn)行參數(shù)修改設(shè)置
2. 勻膠模式：可同時(shí)輸入七組數(shù)值，即轉(zhuǎn)速及勻膠時(shí)間可任意設(shè)置為Ⅰ檔、Ⅱ擋、……Ⅶ檔，轉(zhuǎn)速啟動(dòng)后先低速運(yùn)轉(zhuǎn)（Ⅰ檔），然后自動(dòng)執(zhí)行Ⅱ檔、……Ⅶ檔，直至達(dá)到高速運(yùn)轉(zhuǎn)。
3．勻膠時(shí)間：1～9999s任意時(shí)間可設(shè)置
4．勻膠速度：0～8000rmp可調(diào)
5．旋轉(zhuǎn)加速度：0～8000rpm/sec 由低速到高速加速時(shí)間0.1s～0.5s
6．轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度：±1rmp
7．涂膠均勻性：±3%
8．可鍍膜尺寸：Ф5～Ф150mm（6〞）
9．基片厚度：  ≤5mm
配 置 參 數(shù)1．設(shè)備配置Ф200mm接膠裝置
2．電機(jī)功率：90W，額定轉(zhuǎn)速8000rmp
3．真空泵：FY-1C旋片式真空泵，抽速60L/min(用戶可選配無(wú)油型真空泵)
4．樣片托：標(biāo)配1英寸一個(gè)，2英寸一個(gè)，其它規(guī)格按要求定制
5．輸入電源： AC220V/240V  50HZ
6．整機(jī)功率：100W
7．機(jī)身尺寸： 280×360×240mm
8．機(jī)身重量：10Kg

智能顆粒強(qiáng)度測(cè)定儀 型號(hào)：DL4

DL4型智能顆粒強(qiáng)度測(cè)定儀專為破碎強(qiáng)度值于2000N的硬度較的剛性物料設(shè)計(jì)研發(fā)，廣泛用于型煤、球團(tuán)、冶金、新材料、石化催化等領(lǐng)域。其在DL系列強(qiáng)度測(cè)定儀系列產(chǎn)品的基礎(chǔ)上，增加了堆壓功能，結(jié)構(gòu)及選材更加適應(yīng)強(qiáng)度壓力測(cè)試的需要，更加可靠耐用。該儀器運(yùn)用DL系列產(chǎn)品性能的控制平臺(tái)架構(gòu)，在加力控制、數(shù)據(jù)采樣、數(shù)據(jù)分析計(jì)算等各個(gè)環(huán)節(jié)保證了測(cè)試的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性，受到了國(guó)內(nèi)外用戶的一致推崇和好評(píng)，各項(xiàng)性能及數(shù)據(jù)指標(biāo)在我國(guó)同類產(chǎn)品中處于水平。

主要技術(shù)指標(biāo)